过去三年被限制的显示例子告知我们所有人，虽然光刻机自研的难度十分之高，但却是未来不能不进行的科技研发，更是不能不投入的研发资金。
中国内地光刻机研发工艺最出众的企业，当属上海微电子，其将光刻机分为几个板块，分别进行重点研发，并获得了喜人的成绩。而在28nm制程的光刻机工艺上，已然获得了不错的成绩，得到了ASML的高度赞美。
ASML乃至表示，再给上海微电子5年时间，那么光刻机的核心科技将不再是秘密。而除了上海微电子这类走传统线路的企业以外，还有大量的中国企业另辟蹊径，通过不同的方式来实现只有高端光刻机才能够完成的操作。
像是通富微电便通过绕过光刻机的方式，实现了5nm制程工艺芯片的量产，但是芯片的整体体积仍旧需要缩小；南大广电更是聚焦光刻胶领域，实现了ArF光刻胶的自主生产，摆脱了对于外国企业的依赖。不但是中国企业通过绕过光刻机方式进行半导体产业布局，外国企业一样采取各种方式摆脱对于EUV光刻机的依赖。
关于本次中国光刻机发展现状的问题分享到这里就结束了，如果解决了您的问题，我们非常高兴。
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