中国的光刻机研发项目目前有三大线路，每条都有其独特的特点和技术方向。首先是由上海光机所领导的正统线路，这条线路与ASML的技术线路类似，被认为是传统的光刻机发展方向。
第二个线路由广东智能机器研究院和华中科技大学合作展开，其特点是将光刻机的光源替换为X射线，具有更高的分辨率和潜力。这类技术的引入可以为中国在光刻机领域赋予更多竞争优势。
第三个线路由清华大学主导，采取了SSMB-EUV技术方案。这一方案的独特的地方在于大胆出奇制胜，将光源进行了大幅度的放大和加大功率，以实现更高的精度和效力。这类方式类似于建立一个光刻工厂，将光源输送到芯片生产厂，从而绕过了小型化光源的问题。
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