全球光刻胶市场被日企巨头主导，而中国有庞大的芯片消费市场，目前正在向制造业提升芯片生产能力，所以光刻胶的问题是需要得到解决的。
国产光刻胶虽然距离顶级的水准还有进步空间，但是已经在逐渐增长了，从产量到技术均显现上升状态。比如2016年中国光刻胶行业产量为7.27万吨，到了2017年提升至7.56万吨。
技术方面，南大光电14nm光刻胶打破垄断。由南大光电自主研发的ArF光刻胶正在向多家下游客户进行验证。另外南大光电也流露ArF所需的关键配套材料均为自主研发。
ArF光刻胶可以应用在14nm芯片制程，随着南大光电稳定提升产量，得到客户验证，相信在国产光刻胶行业内会得到更多的客户支持。
有美媒对此感慨：中国学者不睡觉吗？也许在美媒看来，中国芯片频频传来好消息有些难以置信了。
实际上对于这样的行业现状，微软开创人比尔盖茨早有表态。在美国不允许芯片出货的时候，比尔盖茨就表示这会让美国失去很多高薪工作，还会让中国芯片走向自给自足。
情况正如比尔盖茨所言，美国硅谷科技公司开启了大范围裁员行动，有的公司裁员上万人，大批的人员失业。而中国芯片押注技术可控的RISC-V架构发展，从设计层面把控未来。制造方面也有南大光电等国产厂商丰富光刻胶材料进行应用，为中国芯片的进步添砖加瓦。
关于本次南大光电光刻胶破冰的问题分享到这里就结束了，如果解决了您的问题，我们非常高兴。
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