由于国产芯片发展不断被限制，倒逼很多国内企业开始进行大量的自主研发，不但实现了14nm先进工艺范围量产，光刻机也突破90nm，国产芯片迎来了重大突破！
其实14nm的量产就代表着，我国芯片的工艺成熟度，良品率都实现了一定的突破。另外，光刻机也突破90nm，很多人其实不以为然。其实这主要是由于大家有一个误解就是觉得90nm光刻机就只能生产90nm制程的芯片，如今14nm量产也就只能用14nm的光刻机生产，其实其实不是这样的。
90nm光刻机如果经过两次暴光，就能够得到45nm的芯片。以此类推，经过三次的话，就能够得到22nm的芯片，所以对于我们来讲，90nm光刻机的突破也是非常重要的一步。但不可否认的是，这样操作芯片的良品率就会有所降低，所以一般会控制在28nm的水平。
另外，14nm的量产也至关重要，目前14nm芯片可以满足百分之八十以上的市场需求，这代表着我们可以实现更高的芯片自给率，同时，台积电14nm以上制程占有百分之五十左右的市场，这就意味着大陆可以抢占更多的芯片市场。
14nm的量产也解决了更多企业定单的问题，比如中端PC处理器、手机芯片、5G基站芯片这些都可以实现国产替换，解决了我国很多企业缺芯的问题，实现国产芯片自给。14nm的突破也就意味着离7nm的突破不远了。相信未来，我国会有更多芯片技术上的突破，把核心技术掌握在自己手中。
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