本文通过计算机模拟研究了不同尺寸的三角形表面结构在溅射过程中的演变。
问题一：什么是溅射过程？它与哪些技术应用相关？
答案一：溅射是高能粒子轰击目标表面后射出粒子的过程。它与许多技术应用高度相关，包括薄膜溅射沉积、半导体加工中的溅射蚀刻、深度剖析方法（如二次离子质谱、溅射X射线光电子能谱或辉光放电光发射光谱）以及聚变装置中容器壁的腐蚀过程。
问题二：为什么溅射过程对表面结构有影响？
答案二：实验和计算机模拟已经表明，粗糙表面的溅射产额会明显偏离光滑表面的溅射产额。在垂直入射时，粗糙表面的溅射产额通常高于光滑表面的溅射产额，而在掠入射时，粗糙表面的溅射产额低于光滑表面的溅射产额。这是由于粗糙表面的额外倾斜和喷射粒子在粗糙表面上的额外再沉积造成的入射角的分布。
问题三：在溅射过程中，光滑表面和粗糙表面的演变有何不同？
答案三：在溅射过程中，光滑表面会变得更加粗糙，粗糙度随着入射能流的平方根而增加。而粗糙表面则会通过溅射变得更加光滑，最终的光滑度取决于初始的粗糙程度。平滑过程遵循一个特征模式，较小尺度的粗糙度首先消失，而较大尺度的粗糙度保持稳定，直到更高的影响。
问题四：溅射过程中的影响因素有哪些？
答案四：溅射过程中的影响因素包括入射能流的大小、入射粒子的种类、目标表面的粗糙度等。其中，入射能流的大小对表面粗糙度的影响最为显著，粗糙度随着入射能流的平方根而增加。此外，粒子的种类和目标表面的粗糙度也会对溅射过程产生影响。
问题五：溅射过程中的光滑度变化如何体现在傅里叶频谱中？
答案五：溅射过程中，光滑表面的光滑度变化会在傅里叶频谱中作为较高频率的阻尼变得明显。这意味着较小尺度的粗糙度首先消失，而较大尺度的粗糙度保持稳定，直到更高的影响。这种效应可以通过对粗糙表面的傅里叶频谱进行分析来观察到。
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